Blisko 200 metrologów i ekspertów związanych z tą dziedziną nauki spotkało się w Kielcach, aby rozmawiać o perspektywach jej rozwoju. Naukowcy, przedsiębiorcy oraz badacze brali udział w II międzynarodowej konferencji „New Trends in Metrology”, zorganizowanej przez Polską Unię Metrologiczną we współpracy z Politechniką Lubelską i Głównym Urzędem Miar.
Konferencję moderował dr Andrzej Kurkiewicz, dyrektor Departamentu Innowacji i Rozwoju, p.o. dyrektor Zakładu Technologii Cyfrowych Głównego Urzędu Miar. Odczytał on list ministra nauki Dariusza Wieczorka skierowany do uczestników wydarzenia. Szef resortu podkreślił, że konferencja jest doskonałą okazją do wymiany wiedzy i doświadczeń w kluczowych zagadnieniach dotyczących metrologii, a efekty pracy polskich metrologów przyczynią się do rozwoju tej dziedziny na świecie.
Pierwszego dnia wystąpiła dr Miruna Dobre, kierownik Laboratorium Termometrii w belgijskim Krajowym Instytucie Metrologii. W swoim wykładzie przedstawiła historię i znaczenie współpracy badawczej w metrologii na poziomie europejskim, koordynowanej przez EURAMET. Z kolei prof. Beata Godlewska-Żyłkiewicz, kierownik Katedry Chemii Analitycznej i Nieorganicznej na Wydziale Chemii Uniwersytetu w Białymstoku, zwróciła uwagę na zagadnienia związane z nanometrologią – nową dziedziną zajmującą się pomiarami w skali nanometrycznej. Skupiła się między innymi na wyzwaniach metrologicznych związanych z analizą nanocząstek (NPs) w żywności.
Prof. Aime Lay Ekuakille z Uniwersytetu w Salento (Włochy) mówił z kolei o aparaturze diagnostycznej stosowanej w radiologii oraz aplikacjach biomedycznych i przemysłowych. Prof. Luca de Vito (Uniwersytet Sannio w Benevento, Włochy) przedstawił natomiast nowe systemy akwizycji danych z obszaru Internetu rzeczy (IoT) oraz rozproszonych systemów pomiarowych i diagnostycznych (CS). Idea CS (the emerging compressed sensing) pozwala na rozwój wydajnych, samodzielnych i sieciocentrycznych aplikacji w Internecie rzeczy (IoT) przy jak najmniejszej liczbie zasobów.
Pierwszego dnia odbyła się również sesja poświęcona programowi Ministra Nauki „Polska Metrologia”. Celem programu jest podniesienie zdolności badawczych polskich instytucji zajmujących się metrologią oraz wspieranie rozwoju nowoczesnych technologii pomiarowych. Program ma za zadanie stymulowanie rozwoju technologii cyfrowych, w tym rozwój multisensorycznych systemów pomiarowych. Wspiera projekty dotyczące rozwoju technologii przemysłowych opartych na najnowszych innowacjach metrologicznych, cyfryzacji i automatyzacji pomiaru.
Globalne cele zrównoważonego rozwoju wpływają na przemysł metrologiczny, wprowadzając dodatkowe koszty i wymogi regulacyjne. Postęp technologiczny, w tym rozwój AI i systemów big data, umożliwia bardziej precyzyjne pomiary, ale wiąże się z wyższymi kosztami inwestycyjnymi, w tym aparaturowymi, i wymaga zaawansowanej obsługi technicznej. Rozwój technologii multisensorycznych poprawia jakość pomiarów i pozwala na uzyskanie dokładniejszych danych, ale z drugiej strony zwiększa złożoność systemów – mówi prof. Michał Wieczorowski z Politechniki Poznańskiej, jeden z prelegentów konferencji.
Dzień zakończył się obradami Komitetu Budowy Maszyn Polskiej Akademii Nauk, pod przewodnictwem prof. Mirosława Pajora.
Nazajutrz dr hab. inż. Zbigniew Humienny z Wydziału Mechanicznego Energetyki i Lotnictwa Politechniki Warszawskiej omówił znaczenie tolerancji geometrycznych i wyjaśniał, dlaczego metrolog potrzebuje tolerancji geometrycznych na rysunku konstrukcyjnym produktu. Dr inż. Harald W. Scholz z Komisji Europejskiej zaprezentował zaawansowane inteligentne rozwiązania energetyczne i przedstawił rolę metrologii w tym obszarze. Odniósł się do zrównoważonego rozwoju, efektywności energetycznej, monitoringu, fotowoltaiki, kompatybilności elektromagnetycznej, technologii i systemów energii odnawialnej oraz testowania pojazdów. Dr inż. Harald W. Scholz, jako lider projektu SMARTEN, podkreślał wsparcie metrologii ze strony Unii Europejskiej, mówił też o badaniach prenormatywnych i wyjaśniał, dlaczego współpraca z instytucjami metrologicznymi, środowiskiem akademickim i centrami badawczymi państw członkowskich jest tak ważna i pożądana. Na zakończenie dr Piotr Sobecki z Głównego Urzędu Miar oraz Ośrodka Przetwarzania Informacji omówił, w jaki sposób rozwiązania oparte na sztucznej inteligencji są wykorzystywane w diagnostyce raka prostaty, systemach metrologicznych opartych na IoT oraz analizie danych CT, które ujawniają ukryte wzorce w złożonych ocenach radiologicznych i skomplikowanych pomiarach przemysłowych. W swoim przemówieniu przedstawił koncepcję wirtualnych czujników opartych na sztucznej inteligencji, które umożliwiają głębszy wgląd w dane pomiarowe, gwarantując przejrzystość i zaufanie do wyciąganych wniosków przez AI.
Obecnie przemysł potrzebuje dokładnych i szybkich pomiarów. Innowacje w metrologii stanowią ich „kręgosłup”. Dla rozwoju przemysłu pomiary muszą być zintegrowane w czasie rzeczywistym z realizowanymi procesami technologicznymi zgodnie z ideą przemysłu 4.0 i 5.0. Dlatego musimy dysponować zaawansowanymi technologiami pomiarowymi i precyzyjną aparaturą pomiarową. Jestem przekonany, że Polska ma ogromny potencjał, aby stać się liderem w tej dziedzinie, zwłaszcza jeśli skupi się na rozwoju systemów wspomaganych narzędziami sztucznej inteligencji, zaawansowanych systemów monitorowania procesów produkcyjnych i automatyzacją procesów pomiarowych, co zwiększy wydajność pomiaru. Jako Polska Unia Metrologiczna stawiamy sobie za cel wspieranie badań i wdrażanie innowacyjnych rozwiązań, które będą oddziaływać bezpośrednio na rozwój przemysłu oraz całą gospodarkę krajową – przekonuje dr hab. inż. Jerzy Józwik, dyrektor Biura PUM.
Na konferencji byli obecni również naukowcy z Ukrainy, w tym prof. Nataliya Hots z Ukraińskiej Akademii Metrologii, która przedstawiła wystąpienie na temat struktury i działalności tej instytucji. Jej prezentacja była inspiracją do nawiązania szerszej współpracy pomiędzy Polską Unią Metrologiczną a Akademią.
Trzeciego dnia wydarzenia goście zapoznali się z treściami merytorycznymi niemal 50 posterów przygotowanych przez uczestników, prezentujących wyniki badań naukowych oraz innowacyjne rozwiązania z różnych obszarów metrologii. Treść każdego plakatu stanowiła przyczynek do dyskusji kuluarowych oraz wymiany wiedzy
i doświadczeń.
Podczas konferencji goście mieli okazję wziąć udział w licznych prelekcjach i zapoznać się z wynikami badań naukowych. Odbyło się także wiele interesujących tutoriali prowadzonych przez doświadczonych praktyków,
m.in. „Wykorzystanie skanowania laserowego w automatyzacji procesów pomiarowych”, „Automatyzacja pomiarów współrzędnościowych w kontroli jakości”, „Ścieżka szkoleń metrologa współrzędnościowego” oraz „Przechwytywanie wysokiej jakości danych procesowych ze sterowania CNC”. Jednym z wydarzeń towarzyszących była wizyta w Świętokrzyskim Kampusie Laboratoryjnym GUM. To nowoczesny ośrodek badawczo-rozwojowy, który oferuje warunki do współpracy pomiędzy profesjonalną i innowacyjną metrologią laboratoryjną a gospodarką. Inwestycja powstała z inicjatywy Głównego Urzędu Miar i Politechniki Świętokrzyskiej.
Patronem medialnym konferencji „New Trends in Metrology” było „Forum Akademickie”. Kolejna edycja za dwa lata.
KZW
