W przyszłym tygodniu w Cedzynie koło Kielc odbędzie się 44 Seminarium Rzeczników Patentowych Szkół Wyższych. Uczestnicy będą dyskutować o najnowszych trendach i wyzwaniach w obszarze ochrony własności intelektualnej w Polsce i na świecie.
Seminarium od lat stanowi najważniejsze ogólnopolskie spotkanie środowiska rzeczników patentowych, przedstawicieli uczelni i instytutów badawczych, ekspertów prawnych oraz przedsiębiorców. Wszyscy oni będą dyskutować o najnowszych trendach i wyzwaniach w obszarze ochrony własności intelektualnej w Polsce i na świecie. Wydarzenie jest także okazją do wymiany doświadczeń.
Program wydarzenia obejmuje wykłady, warsztaty i panele dyskusyjne dotyczące m.in.:
Program uzupełniają wizyty studyjne, m.in. w Fabryce Bombek GMC w Staszowie i w Muzeum Śliwki w Szydłowie oraz w instytucjach zajmujących się nowoczesnym wzornictwem i transferem technologii.
Seminarium Rzeczników Patentowych Szkół Wyższych odbędzie się w dniach 22–26 września w Cedzynie koło Kielce. Wydarzenie organizowane jest przez Politechnikę Świętokrzyską we współpracy ze Staropolską Izbą Przemysłowo-Handlową i partnerami, a patronat honorowy sprawują Prezes Urzędu Patentowego RP oraz Rektor Uniwersytetu Jagiellońskiego. Patronat medialny objęło „Forum Akademickie”. Więcej informacji na stronie internetowej SIPH.
MK